El Departamento de Comercio de EE. UU. revocó la licencia rápida (VEU) que permitía a TSMC, Samsung y SK Hynix enviar libremente maquinaria estadounidense a sus fábricas chinas.

• Impacto inmediato: a partir de enero de 2026 cada envío requerirá un permiso individual, lo que ralentizará las actualizaciones de planta y encarecerá los proyectos en Nanjing, Dalian y Wuxi.

• Efecto dominó: los proveedores norteamericanos de equipos de litografía (Applied Materials, Lam Research, KLA) prevén caída de ventas, mientras los fabricantes locales chinos ganan terreno.

• Lectura estratégica: Washington deja claro que incluso la producción “madura” (28–40 nm) puede entrar en el radio de las restricciones si la geopolítica lo exige.(T)

Fuente: evafm.net – reuters.com